流體拋光與其他拋光方式的對(duì)比優(yōu)勢(shì)

1.相對(duì)于電化學(xué)拋光

雖然磨料流擠壓珩磨的效率不如電化學(xué)珩磨，但其在拋光粗糙度方面的控制更為精確。經(jīng)電化學(xué)拋光后，表面清潔效果良好，但表面光潔度不理想，特別適用于精密工件拋光。

磨料流特別適合復(fù)雜工件的處理，例如內(nèi)孔去毛刺，交叉孔去毛刺，彎曲孔，長(zhǎng)孔，微孔，小孔拋光去毛刺。內(nèi)表面人工無(wú)法觸及的地方磨料流優(yōu)勢(shì)明顯

2.相對(duì)于研磨拋光

研磨拋光具有環(huán)保、低成本的優(yōu)勢(shì)，但是卻不能對(duì)內(nèi)孔進(jìn)行拋光以及去除毛刺。

3.相對(duì)于磁力研磨機(jī)

擠壓珩磨不僅可以完成精孔拋光去毛刺，而且經(jīng)過(guò)磁性?huà)伖夂螅a(chǎn)品表面呈現(xiàn)霧化模糊狀態(tài)，不夠光亮，外觀(guān)美感差，毛刺去除不干凈等。所以對(duì)于精密工件,異形工件，復(fù)雜型腔工件磨粒流是最好的選擇，無(wú)損耗，而且環(huán)保。

4.相對(duì)于噴砂拋光

形成高速?lài)娚涫鴮⑽锪希ㄊ袷啊~礦石、石英砂、金剛砂、鐵砂、海南砂）高速?lài)娚涞郊庸ぜ谋砻妗Ｍ獗砻婊蚬ぜ砻嫘螤畎l(fā)生變化，不適合內(nèi)部特別是曲面十字孔拋光。噴砂拋光適用于表面拋光處理，但對(duì)于內(nèi)部型腔，內(nèi)凹槽，內(nèi)壁，內(nèi)孔，彎曲面都無(wú)法觸及。